技術(shù)編號(hào)：2757939
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在光刻工藝中用于去除光刻膠的去除組合物。更具體地說，本發(fā)明涉及一種在其用于形成金屬電路圖形的方法時(shí)在光刻膠去除過程中能夠使金屬電路的腐蝕降低至最小并具有優(yōu)異的去除光刻膠性能的去除組合物。背景技術(shù) 光刻膠是光刻工藝中所必需使用的材料，光刻工藝是用于制造諸如集成電路(IC)、大規(guī)模集成電路(LSI)、超大規(guī)模集成電路(VLSI)的半導(dǎo)體器件以及諸如液晶顯示器(LCD)和等離子體顯示器(PDP)的圖像顯示器件的常規(guī)工藝中的一種工藝。然而，光刻處理之...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。