技術(shù)編號：2757499
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及圖案形成裝置、標(biāo)記檢測裝置、曝光裝置、圖案形成方法、曝光方法及 組件制造方法，更詳細(xì)地說，涉及在制造半導(dǎo)體元件及液晶顯示元件等的電子組件時可以 良好地被使用的圖案形成裝置及曝光裝置、在該圖案形成裝置或曝光裝置中可以良好地使 用的標(biāo)記檢測裝置、在制造該電子組件時可以良好地使用的圖案形成方法及曝光方法、以 及使用該圖案形成方法或曝光方法的組件制造方法。背景技術(shù)以往，在制造半導(dǎo)體元件(集成電路等)、液晶顯示元件等的電子組件(微型組 件)的光刻法過程中，...
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