技術(shù)編號：2757406
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻用防塵薄膜組件及防塵薄膜組件框架，其為在制造LSI (大 型集成電路)、超LSI (超大型集成電路)等半導體裝置或液晶顯示板時被使用作為光刻用 掩模的防塵構(gòu)件。本發(fā)明還涉及一種用于該防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框架的制造方 法。背景技術(shù)在制造LSI、超LSI等半導體裝置或液晶顯示板時，用光照射在半導體基板或液晶 用原板以制作圖案，此時所采用的曝光原版上若附著塵粒，由于此塵粒會吸收光或使光偏 轉(zhuǎn)，而造成轉(zhuǎn)印的圖案會變形或邊緣粗糙化、基部臟污、...
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