技術(shù)編號：2752379
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。背景技術(shù)本發(fā)明涉及改進的光引發(fā)劑。更具體地說，本發(fā)明涉及光引發(fā)劑成分結(jié)合到親水性載體成分上的改進的光引發(fā)劑。光引發(fā)劑被用于各種化學制劑來使制劑對光敏感。當化學制劑暴露于光化輻射時，例如在光致抗蝕劑中時，化學成分進行交聯(lián)或聚合反應。光致抗蝕劑是指用于將圖象轉(zhuǎn)印到底材上的感光膜。在底材上形成光致抗蝕劑的涂層，然后該光致抗蝕劑層通過光掩模暴露于活性輻射源。光掩模具有對活性輻射源不透明區(qū)域而其它區(qū)域?qū)罨椛渫该鳌１┞队诨罨椛洚a(chǎn)生了光致抗蝕劑涂層的光誘導化學轉(zhuǎn)化...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。