技術編號：2747909
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種抗反射涂層的成份。該成份用來在抗蝕膜上形成一抗反射涂層膜，以便在利用光致抗蝕劑(光刻膠)通過照相平板印刷術(光刻法)制作電路圖形時能防止由于襯底反射光在抗蝕劑中的干涉作用而產(chǎn)生的電路圖形尺寸精度的下降(或防止電路圖形寬度尺寸的波動)。半導體器件一般是通過照相平板印刷術制作的，該制作過程包括下述步驟在襯底(例如硅片)上涂上一層光致抗蝕劑膜，通過放射性射線有選擇性地照射在上述膜上形成電路圖形，然后進行顯影。業(yè)內(nèi)人士都知道，由放射性射線的選擇性照射...
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