技術(shù)編號：2743034
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及顯影機臺領(lǐng)域，特別是涉及一種監(jiān)測顯影機臺曝光后烘烤熱板斜率的 方法。背景技術(shù)在涂膠顯影機臺的使用中，需要監(jiān)測曝光后烘烤(PEB Post Exposure Bake)過 程中使用的熱板的斜率，傳統(tǒng)地，使用乙酸醛基類DUV光刻膠來監(jiān)測熱板斜率，即將乙酸醛 基類DUV光刻膠涂覆在晶片上，在PEB的熱板上加熱，然后用膜厚測量機臺測量光刻膠的厚 度，測量時，如圖1所示，在水平方向(X方向)和垂直方向(Y方向)各監(jiān)測9個點，然后運 用EXCEL中斜率計算公...
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