技術(shù)編號：2742381
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及極紫外光刻掩模，特別是一種。背景技術(shù)掩模缺陷是極紫外光刻發(fā)展過程中的主要障礙之一。掩模缺陷極大的影響極紫外光刻掩模的多層膜反射率，因此需要一定的方法進行補償，而準確、快速地仿真掩模缺陷對掩模成像的影響是補償?shù)闹饕罁?jù)和大面積掩模仿真的要求。因此研究快速而準確的掩模缺陷仿真方法具有十分重要的意義。目前，極紫外光刻掩模仿真通常采用的是嚴格仿真方法求解掩模衍射場分布如 FDTD 方法(參見在先技術(shù) I，T.Pistor, Y.Deng, and A.N...
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