技術(shù)編號(hào)：2742361
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)接器，特別是涉及一種用于對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)的轉(zhuǎn)接器。本發(fā)明還涉及一種裝設(shè)掩模的方法。 背景技術(shù)微光刻技術(shù)(Microlithogr即hy)通常是指將較小的特征圖案轉(zhuǎn)移至例如硅晶片 的標(biāo)的物的技術(shù)。微光刻技術(shù)包括一種微影技術(shù)(lithography)，其使用于半導(dǎo)體制造技 術(shù)，用以定義集成電路的結(jié)構(gòu)層。在微影制造工藝中，玻璃掩模的影像投影至涂布有光致抗 蝕劑的感光的光致抗蝕劑層上。 應(yīng)用于較大尺寸的晶片(例如12英寸晶片)的光刻機(jī)(aligner)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。