技術(shù)編號：2741183
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及化學(xué)放大型抗蝕劑組合物。技術(shù)背景用于采用光刻(lithography)法的半導(dǎo)體微型制造的化學(xué)放大型抗蝕劑組合物含有酸生成劑，該酸生成劑包含通過輻照產(chǎn)生酸的化合物。在半導(dǎo)體微型制造中，適宜的是形成具有高分辨率和良好圖案形貌的圖案，并且期望化學(xué)放大型抗蝕劑組合物產(chǎn)生這樣的圖案。JP 2003-005374 Al公開了一種化學(xué)放大型抗蝕劑組合物，該化學(xué)放大 型抗蝕劑組合物包含樹脂和酸生成劑，所述樹脂包含具有酸-不穩(wěn)定基團的 結(jié)構(gòu)單元和具有至少一種內(nèi)酯...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。