技術(shù)編號：2740192
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明關(guān)于一種制造光罩的方法，且尤其是，關(guān)于一種在制造光罩時修 正光學鄰近效應(yīng)的方法。背景技術(shù)由于以高集成度來開發(fā)半導(dǎo)體裝置，半導(dǎo)體裝置所需的圖案的尺寸變得 較小。因這些圖案的尺寸變得較小，于光蝕刻(photomhography)工藝期間 在相鄰圖案之間的影響造成光學鄰近效應(yīng)。因此，^^行光學鄰近修正(OPC) 以修正設(shè)計師設(shè)計的布局，并抑制由光學鄰近效應(yīng)所造成的圖案失真。光學鄰近修正的過程起自設(shè)計待投射在晶圓上的這些標的圖案的布局 及制造具有這些測試圖案...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。