技術編號:2737392
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本申請案請求2007年5月21日申請的標題為",,的美國臨時申請案第60/931,275以及2006年7月21日申請的標題為""的美國臨時申請案第60/832,472的權利,其教示以引用方式并入本文。背景技術水浸漬式微影術是一種將容許半導體組件的特征尺寸持續(xù)性降低的方法。使用水取代空氣作為透鏡和晶圓之間的介質增加了介質的折射率到接近透鏡的折射率的數(shù)值,并改良微影的解析度。水浸漬式微影術容許使用激光,例如193納米(nm)的激光,以產(chǎn)生相較于使用傳統(tǒng)微影術可...
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- 楊老師:物理電子學