技術編號：2737028
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種與上面正性光刻膠一起使用的抗反射涂料組合物。更 具體地，本發(fā)明涉及一種可在含水堿性顯影液中顯影的正性作用的底部抗 反射涂料組合物。本發(fā)明還涉及一種通過在光刻中使用本發(fā)明抗反射涂料 組合物形成并轉印浮雕圖像的方法。背景技術在光刻工藝中，將光刻膠啄光于激活輻射是獲得高清晰度光刻膠圖像 的重要步驟。但是，光刻膠和下面襯底對激活輻射的反射明顯限制了光刻工藝的清晰度。械反射的輻射存在兩個主要問題(1)隨著光刻膠厚度變 化，光刻膠膜的總光強改變引起的薄膜...
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