技術(shù)編號(hào)：2733061
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路的制造以及用于減少集成電路制造中所用 設(shè)備的缺陷并且改善其耐用性的裝置和方法。更特別地，本發(fā)明涉 及用于減少沉浸式光刻裝置中部件的機(jī)械磨損的裝置和方法。背景技術(shù)液體沉浸式光刻已經(jīng)作為用于先進(jìn)集成電路的亞波長、光刻成 像的首要候選技術(shù)出現(xiàn)。通過使用高折射率流體填充光學(xué)投影系統(tǒng)的最后透鏡元件和晶片表面之間的間隙，數(shù)值孔徑(NA)接近流體 折射率的光學(xué)投影系統(tǒng)是可能的。高數(shù)值孔徑能夠增加分辨率，增 加的分辨率對(duì)于改善集成電路的性能是必需的。此方...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。