技術(shù)編號:2732987
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及如下阻焊膜的形成方法,將感光性組合物涂布 到基材上使其干燥后,對該干燥涂膜照射激光后,通過堿性水溶液進(jìn)行顯影而形成阻焊膜;還涉及用于本方法的感光性組合 物、以及將該組合物涂布到載膜上后進(jìn)行干燥而得到的干膜。背景技術(shù)印刷電路板的最外層設(shè)有稱為阻悍膜的永久保護(hù)膜。為了 形成該阻焊膜,廣泛采用可準(zhǔn)確形成微細(xì)圖案的光刻法。其中, 從環(huán)境方面考慮等,主流是堿顯影型的光刻法。作為光刻法中的 一個(gè)方法,廣為人知的是使用從產(chǎn)生紫外 線的燈發(fā)出的光的一次性曝光法,...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。