技術(shù)編號：2731823
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于印刷布線基板的曝光裝置。 背景技術(shù)近些年印刷布線基板是使用曝光裝置來制造的，作為制造方法使用光刻蝕(photolithography)法，該方法是通過該曝光裝置在涂布了光刻 膠(photoresist)等感光材料的基板表面上感光燒上預(yù)定圖案，之后通過 蝕刻工序在基板上形成圖案。在該曝光裝置中， 一般而言，主要使用樹脂膠片掩模作為描繪有圖 案原圖的原版，在玻璃制的掩模保持件上保持該膠片掩模進(jìn)行使用。而 且為了提高該膠片掩模與基板之間的密合性，大...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。