技術(shù)編號：2731730
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在基材上形成電功能圖形。本發(fā)明更具體地涉及結(jié)合含有施加到載片上的厚膜組合物的片材而使用光敏元件的方法。本發(fā)明也涉及從用過的片材上回收厚膜組合物的方法。光圖形形成和腐蝕方法是與絲網(wǎng)印刷比較能提供更為均勻細(xì)線和間距分辨率的一種圖形形成技術(shù)。光圖形形成方法，例如DuPont’s FODEL印刷系統(tǒng)，采用在美國專利4,912,019；4,925,771；5,032,490中所述的光敏有機(jī)介質(zhì)，是將基材首先用光敏厚膜組合物完全覆蓋(印刷，噴射，涂覆或疊壓...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。