技術(shù)編號(hào)：2729380
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及抗反射涂層領(lǐng)域并涉及一種使用抗反射涂層組合物在襯底上形成圖像的方法。背景技術(shù) 在制備半導(dǎo)體器件中，采用光成圖案抗蝕劑的膜涂覆集成電路襯底，將其在光化輻射下曝光，并且進(jìn)行顯影以在集成電路襯底的上方限定抗蝕劑圖像。抗蝕劑圖像可以例如包括線條和空白，其中被除去的光成圖案抗蝕劑的部分形成空白，而留下的部分形成線條。通過對(duì)襯底的曝光部分進(jìn)行修飾，而將抗蝕劑圖像轉(zhuǎn)印到集成電路襯底上。這種修飾可以通過用蝕刻法除去一部分襯底，通過將原子種類注入襯底，或通過本領(lǐng)域...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。