技術(shù)編號(hào)：2729343
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及表面涂層材料及其在光刻工藝中的使用。本發(fā)明尤其涉及容易施加的表面涂層材料，其不溶于水且可在含堿的水性顯影劑中進(jìn)行解聚。本發(fā)明的表面涂層對(duì)于干式光刻工藝及浸入式光刻是很有用的，在浸入式光刻中，使用液體(例如水)作為曝光工具的透鏡夾具和光刻膠涂布的晶片之間的曝光介質(zhì)。背景技術(shù) 光刻法是用于制造微電子元件如計(jì)算機(jī)芯片和集成電路制造中使用的工藝。通常，在這種工藝中，首先將一層光刻膠組合物的薄膜涂層施加到襯底材料上，如被用來制造集成電路的硅晶片。這種已涂...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。