技術(shù)編號：2729123
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻工藝，特別是涉及一種。 背景技術(shù)光刻工藝是集成電路制造工藝中不可或缺的重要技術(shù)。所述光刻工藝通 常包括如下步驟，先在晶圓表面涂布光阻等感光材料，在感光材料干燥后， 通過曝光裝置將掩^^莫上的電路設(shè)計(jì)圖形以特定光源曝在所述的感光材料上， 再以顯影劑將感光材料顯影，并利用顯影出來的圖形作為屏蔽，進(jìn)行蝕刻等 工藝，并最終完成掩模圖形的轉(zhuǎn)移。隨著集成電路制造工藝中器件的尺寸的越來越小，對于光刻工藝的要求 也越來越高。目前， 一般都是通過縮小曝光光源的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。