技術(shù)編號(hào)：2727376
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光學(xué)薄膜，尤其是涉及一種用于紫外光探測器的雙層減反射薄膜的設(shè)計(jì)及其制造工藝。背景技術(shù) 減反射膜在光電探測器(PD)、發(fā)光二極管(LED)以及太陽能電池等半導(dǎo)體器件上有著廣泛的應(yīng)用。近年來，在軍用和民用等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值的SiC基和GaN基紫外探測器已經(jīng)研制成功。為了進(jìn)一步提高紫外探測器的性能，紫外減反射膜的研究具有很重要的意義。為了獲得具有高量子效率和響應(yīng)度的探測器，應(yīng)盡量減少紫外光在探測器光敏面的反射，以使光子能夠最大限度地進(jìn)入半導(dǎo)體內(nèi)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。