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一種薄膜圖案化的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2717195

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本發(fā)明實(shí)施例提供,涉及顯示,能夠解決制作線寬較小的薄膜層圖案時(shí),由于掩膜版開(kāi)口區(qū)域較小,使得曝光不足,而引起的成膜缺陷。所述方法包括在基板的表面依次形成薄膜層和光刻膠;通過(guò)掩膜版對(duì)光刻膠進(jìn)行第一次曝光,形成第一半固化區(qū),第一半固化區(qū)光刻膠的曝光的能量小于光刻膠的感光閾值;通過(guò)掩膜版對(duì)光刻膠進(jìn)行第二次曝光,在第一半固化區(qū)上形成固化區(qū);其中,固化區(qū)的寬度小于第一半固化區(qū)的寬度,固化區(qū)光刻膠的曝光的能量大于等于光刻膠的感光閾值;將光刻膠進(jìn)行顯影;對(duì)未被光刻膠覆蓋...
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