技術(shù)編號(hào)：2704710
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于芯片的光刻膠剝離液、制備方法及去膠工藝，所述剝離液包括剝離劑、潤濕劑、有機(jī)胺或有機(jī)銨鹽、緩蝕劑、助劑和有機(jī)溶劑。所述剝離液對(duì)各種芯片具有良好的光刻膠剝離和溶解能力，能夠完全去除光刻膠，無殘留，此外還能保證無腐蝕，具有廣泛的工業(yè)應(yīng)用潛力和價(jià)值。專利說明—種用于芯片的光刻膠剝離液、制備方法及去膠工藝[0001]本發(fā)明涉及一種電子元件清洗液，特別地涉及一種用于芯片的光刻膠剝離液、制備方法及去膠工藝，屬于高精密度電子元器件的精密清洗領(lǐng)域。背景技術(shù)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。