技術(shù)編號(hào):2703989
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻工藝中版圖設(shè)計(jì)友善性檢測(cè)方法,包括如下步驟將設(shè)計(jì)目標(biāo)圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化為光刻目標(biāo)圖形;對(duì)光刻目標(biāo)圖形依次進(jìn)行第一次光學(xué)鄰近效應(yīng)修正和第一次工藝偏差圖形模擬;對(duì)光刻目標(biāo)圖形進(jìn)行第一次工藝熱點(diǎn)檢測(cè);若第一次工藝熱點(diǎn)檢測(cè)發(fā)現(xiàn)至少一個(gè)潛在工藝熱點(diǎn),則對(duì)各潛在工藝熱點(diǎn)附近的光刻目標(biāo)圖形分別進(jìn)行第二次光學(xué)鄰近效應(yīng)修正和第二次工藝偏差圖形模擬;根據(jù)第二次工藝偏差圖形模擬的結(jié)果對(duì)各檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行第二次工藝熱點(diǎn)檢測(cè);其中,檢測(cè)區(qū)域與潛在工藝熱點(diǎn)一一對(duì)應(yīng),并根據(jù)潛在...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。