技術(shù)編號：2702211
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明實施例公開了一種檢測彩膜基板拼接曝光誤差的方法以及掩膜板，涉及顯示，可以準(zhǔn)確檢測出彩膜基板中各結(jié)構(gòu)單元層間位置偏差量。本發(fā)明實施例提供的方法，包括使用至少包括第一結(jié)構(gòu)單元圖形、第一位置標(biāo)識圖形的第一掩膜板形成彩膜基板中的第一結(jié)構(gòu)單元以及第一位置標(biāo)識，第一位置標(biāo)識位于彩膜基板的顯示區(qū)域內(nèi)，用于表征第一結(jié)構(gòu)單元的位置；使用至少包括第二結(jié)構(gòu)單元圖形、第一覆蓋區(qū)圖形的第二掩膜板形成彩膜基板中的第二結(jié)構(gòu)單元以及第一覆蓋區(qū)，第一覆蓋區(qū)圖形位于彩膜基板的顯示區(qū)域內(nèi)...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。