技術(shù)編號：2698907
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本專利公開了一種均勻孔徑、特定形狀以及規(guī)則孔分布的獨(dú)立自支撐多孔膜加工方法，以及其在納米顆粒圖案合成中的應(yīng)用。本方法包括將光致抗蝕劑層涂覆于基底上表面，首先將其加熱相應(yīng)時間段，然后通過具有預(yù)設(shè)圖案的掩模版使該光致抗蝕劑層通過紫外曝光，并控制所述紫外線輻射劑量的強(qiáng)度和時間實現(xiàn)劑量控制，以便所述紫外線輻射劑量通過并進(jìn)入所述光致抗蝕劑層頂部比與所述基底表面緊鄰的光致抗蝕劑層底部經(jīng)受更多的交聯(lián)，從而在所述光致抗蝕劑層的厚度內(nèi)產(chǎn)生交聯(lián)梯度。由于與基低表面相鄰的膜部分...
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