技術(shù)編號(hào)：2694245
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及薄膜顯示元件，特別是在形成接觸孔的步驟時(shí)，形成圖案化光致抗蝕劑層之后，直接進(jìn)行蝕刻步驟，以形成接觸孔，然后再對(duì)圖案化光致抗蝕劑層進(jìn)行熱處理，使得圖案化光致抗蝕劑層產(chǎn)生相變，而朝向接觸孔的側(cè)壁流動(dòng)，并且覆蓋在接觸孔的側(cè)壁上。背景技術(shù) 參考圖1，是表示現(xiàn)有技術(shù)形成顯示元件各步驟的流程圖。首先步驟100表示提供基板；步驟110表示形成第一金屬于基板上；步驟120表示形成絕緣層以覆蓋第一金屬和基板；步驟130表示形成第二金屬在絕緣層上；步驟140表示形成...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。