技術(shù)編號(hào):2691139
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及光學(xué)領(lǐng)域,具體涉及一種用于無(wú)掩膜光刻投影曝光系統(tǒng)的偏振合光裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有的投影光學(xué)系統(tǒng)中,需要將被照明物均勻照明,經(jīng)過(guò)成像系統(tǒng)將被照明物予以投影,從而獲得所需要的圖像。在投影顯示和投影曝光系統(tǒng)中,需要提供較高的能量,以期使得投影出來(lái)的圖像夠亮或使得曝光基底予以曝光。通常情況下,多采用高能量的光源和提高系統(tǒng)的能量利用率。采用高能量的光源,勢(shì)必會(huì)增加相應(yīng)的成本,同時(shí),光源能量的增加也是有限的。在光學(xué)系統(tǒng)相應(yīng)元器件確定的情況下,提高系統(tǒng)的能量利...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
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- 楊老師:物理電子學(xué)