技術編號：2689853
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種平坦度調整系統，特別涉及一種可調整基材的平坦度的平坦度調整系統。背景技術 在目前的半導體制造工藝中，針型承載吸盤(pin chuck)已被廣泛地應用來承載晶片(wafer)，以便在晶片上進行曝光(exposure)等工藝。請參閱圖1，一種公知的針型承載吸盤1主要包括有底座11、真空管路12、多個中空針型承載元件13以及兩個干擾性反射鏡片(interferometermirror)14。多個中空針型承載元件13均勻地成形于底座11之上，而真空管...
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