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一種掩模板的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2686872

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝,尤其涉及一種掩模板。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體制作工藝,通過(guò)掩模板對(duì)涂覆有光刻膠的目標(biāo)基板進(jìn)行光刻形成一種光刻圖案,并對(duì)光刻圖案進(jìn)行刻蝕,實(shí)現(xiàn)將掩模板上的圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基板上是非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。光刻過(guò)程是通過(guò)曝光機(jī)和具有狹縫狀透光區(qū)域的掩模板對(duì)涂覆有光刻膠的目標(biāo)基板進(jìn)行掩模曝光的過(guò)程。最終將掩模板上的狹縫狀透光區(qū)域形成的圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基板上,對(duì)目標(biāo)基板進(jìn)行刻蝕,得到目標(biāo)基板上一定寬度的狹縫狀圖形結(jié)構(gòu)。在微光刻領(lǐng)域,繪制到目標(biāo)基板上的圖形結(jié)構(gòu)...
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