技術(shù)編號：2684014
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種微電子半導體加工設備，尤其涉及一種針對多臺光刻機的校正方法。背景技術(shù)當在量產(chǎn)一個產(chǎn)品時，一個半導體工廠將會配有兩臺及以上相同型號的多臺光刻機組(光刻機+涂膠顯影機)進行同一工藝層的生產(chǎn)。由于每臺光刻機對同一層的尺寸并不能做到完全一致，這就需要調(diào)整曝光參數(shù)NA和sigma。目前，一般應用中會用很多片晶圓進行曝光參數(shù)的調(diào)整，一片晶圓對應一個參數(shù)， 然后進行曝光和測量。又要使用專用測試掩模板進行圖形缺陷能力檢測，不同的產(chǎn)品又要重復相同的工作，這就導...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。