技術(shù)編號：2682203
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及清洗方法、器件制造方法、曝光裝置、以及器件制造系統(tǒng)。本申請根據(jù)在2010年4月2日申請的美國專利臨時(shí)申請第61/320，451號、以及第61/320，469號、以及在2011年4月I日申請的美國申請主張優(yōu)先權(quán)，并在此援用其內(nèi)容。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件、電子器件等微型器件的制造工序中，使用經(jīng)由曝光液體用曝光光對基板進(jìn)行曝光的浸液曝光裝置。在浸液曝光裝置中，與曝光液體接觸的接液構(gòu)件有可能被污染。因此，提出了例如下述專利文獻(xiàn)公開那樣的使用清洗用的液體對接...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。