技術(shù)編號：2677130
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利說明微細(xì)圖形形成材料、微細(xì)圖形 形成法及半導(dǎo)體裝置的制法 本發(fā)明涉及微細(xì)圖形形成材料、微細(xì)圖形形成方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法。近年，隨著半導(dǎo)體裝置集成度的增加，各個元件的尺寸進(jìn)行微小化，構(gòu)成各元件的配線和門電路(gate)等的寬度也微細(xì)化。一般地，微細(xì)圖形的形成，是采用光刻技術(shù)形成所期望的抗蝕劑圖形后，通過以該抗蝕劑圖形為掩模蝕刻底層的各種薄膜來進(jìn)行。因此，在微細(xì)圖形的形成中，光刻技術(shù)非常重要。光刻技術(shù)由抗蝕劑的涂布、掩模的位置配合、曝光及顯像各工序構(gòu)...
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