技術(shù)編號(hào)：2673141
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種納米壓印抗蝕劑，特別涉及一種紫外納米壓印抗蝕劑及其組成。背景技術(shù)納米壓印技術(shù)是一種革命性的、低成本的納米結(jié)構(gòu)圖形制作技術(shù)，其極限分辨率 可以達(dá)到幾個(gè)納米。納米壓印技術(shù)和其他光刻技術(shù)相比具有高分辨率、高效率、低成本等 明顯優(yōu)勢，該技術(shù)最吸引人的地方就是它像圖章一樣， 一個(gè)模板就可連續(xù)壓制，產(chǎn)量高，非常適合大規(guī)模生產(chǎn)，可望盡快突破幾十納米線寬ic制作的世界技術(shù)難題，并可大大縮短圖形制作周期和降低成本。該技術(shù)在發(fā)光二極管、高密度存儲(chǔ)、太陽能電池、生...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。