技術(shù)編號：2672926
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種適合用在半導(dǎo)體器件的有機抗反射涂層中的有機聚合物，及其制備方法。更具體地說，本發(fā)明的聚合物可用于在制備64M、256M、1G、4G和16G DRAM半導(dǎo)體器件而采用193nm(ArF)波長的照相平版印刷術(shù)時，涂布在半導(dǎo)體芯片上形成涂層以防止光從芯片的下層反射回來。包含本發(fā)明聚合物的抗反射涂料也可消除在使用ArF照射線時的駐波效應(yīng)，以及由光刻膠層本身的厚度變化引起的反射／衍射。本發(fā)明也涉及含有上述聚合物的抗反射涂料組合物、由該組合物得到的抗反射...
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