技術(shù)編號(hào):2623352
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種應(yīng)用于教學(xué)與科學(xué)研究的光彈試樣,在外力作用下利用環(huán)境光不需借助外部設(shè)備便能直接觀察到試樣中的應(yīng)力變化與分布情況的光彈試樣,尤其是在明亮的環(huán)境中也能夠直接顯示出直觀光彈試樣中的光彈性應(yīng)力變化與分布情況。 背景技術(shù)目前,公知的光彈性原理是應(yīng)力變化可以改變某些透明光學(xué)介質(zhì)的折射率特性,且光學(xué)介質(zhì)折射率變化的程度與應(yīng)力成正比,當(dāng)一束平面偏振光垂直入射一個(gè)受力透明光學(xué)平板模型時(shí),它沿兩個(gè)主應(yīng)力方向分解為兩束平面偏振光,由于這兩束平面偏振光在平板模型...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。