技術編號：2617886
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種電子發(fā)射設備。本發(fā)明尤其涉及改善圖像質(zhì)量的電子發(fā)射設備、使用它的顯示設備和/或其驅(qū)動方法。背景技術電子發(fā)射設備使用熱陰極或者冷陰極作為電子源。使用冷陰極的電子發(fā)射設備的已知例子有場發(fā)射體陣列(FEA)、表面?zhèn)鲗Оl(fā)射體(SCE)、金屬-絕緣體-金屬(MIM)、金屬-絕緣體-半導體(MIS)和發(fā)射電子表面發(fā)射(ballisticelectron surface emitting，BSE)電子的發(fā)射設備。FEA電子發(fā)射設備是一種基于這種功能原理的設...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。