技術(shù)編號:2514065
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種熱敏轉(zhuǎn)印記錄介質(zhì),該熱敏轉(zhuǎn)印記錄介質(zhì)在基材上依次層合形成底涂層及染料層,該底涂層是將底涂層形成用涂布液進(jìn)行涂布、干燥而形成的,所述底涂層形成用涂布液含有基于JIS?K7113測定的抗拉強(qiáng)度為8kg/mm2以上的聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮,該染料層是將染料層形成用涂布液進(jìn)行涂布、干燥而形成的,所述染料層形成用涂布液中作為熱轉(zhuǎn)移性染料含有蒽醌系化合物。專利說明熱敏轉(zhuǎn)印記錄介質(zhì)[0001]本發(fā)明涉及在熱敏轉(zhuǎn)印方式的打印機(jī)中使用的熱敏轉(zhuǎn)印記錄介質(zhì)(he...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。