技術(shù)編號：2509435
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種被構(gòu)造成在將記錄介質(zhì)吸附到饋送構(gòu)件的同時饋送該記錄介質(zhì) 的介質(zhì)饋送設(shè)備和圖像記錄設(shè)備。背景技術(shù)專利文獻1 (日本專利申請公報No. 07-330185)公開了一種被構(gòu)造成在將記錄介 質(zhì)吸附到饋送構(gòu)件的同時饋送記錄介質(zhì)的設(shè)備。在該設(shè)備中，饋送構(gòu)件(片材饋送皮帶) 的饋送面上的記錄介質(zhì)通過使用被設(shè)置在饋送面的相反側(cè)的電極被吸附到該饋送面。發(fā)明內(nèi)容在上述吸附設(shè)備中，由于在饋送構(gòu)件與電極的表面層構(gòu)件之間積累有電荷，且因 此在饋送構(gòu)件與電極的表面層構(gòu)件...
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