技術編號：2442738
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及水蒸氣阻隔性優(yōu)異的氣體阻隔性薄膜以及采用了該薄膜的有機器件(device )。 背景技術一直以來人們都在研究有機器件中使用的薄膜。例如在日本特開2003 一51382號公報中公開了一種薄膜，它是在高分子薄膜的表面具有被膜的有 機器件用薄膜，其特征在于，上述被膜由含有硅、氮、氫、氧的無機聚合 物構成。另外，在日本特開平8—68990號公報中公開了氣體阻隔性低透濕 性絕緣性透明電極用基板，其特征在于，在透明基板的至少一個面上層疊 了由至少一層氮化物構...
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