技術(shù)編號：1981052
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及，更詳細而言，本發(fā)明涉及適合作為半導(dǎo)體和液晶顯示器等的制造工藝中使用的蝕刻裝置、濺射裝置、CVD裝置等真空處理裝置的構(gòu)成構(gòu)件使用的、對鹵素類腐蝕性氣體和它們的等離子體的耐腐蝕性和導(dǎo)熱性優(yōu)良并且導(dǎo)電性也優(yōu)良的。另外，本發(fā)明涉及高頻透射材料，更詳細而言，本發(fā)明涉及適合用于半導(dǎo)體裝置等的制造工藝中使用的利用高頻的等離子體處理裝置等的、伴隨對試樣施加高頻而產(chǎn)生的等離子體的穩(wěn)定性優(yōu)良的高頻透射材料。另外，本發(fā)明涉及，更詳細而言，本發(fā)明涉及對鹵素類腐蝕性氣體...
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