技術(shù)編號：1969586
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有低熱膨脹的，所述石英玻璃適用于EUV光刻。背景技術(shù)在用于半導(dǎo)體器件制造的先進(jìn)光刻工藝中，將具有較短波長的光源用于曝光。認(rèn)為向使用遠(yuǎn)紫外(EUV)的光刻的后續(xù)轉(zhuǎn)化是有希望的。因?yàn)镋UV光刻使用反射光學(xué)系統(tǒng)和短波長光源，所以光刻的精度甚至可受到光刻光學(xué)系統(tǒng)中的每種部件(例如襯底)的輕微熱膨脹的不利影響，所述熱膨脹由到達(dá)那里的熱引起。因此，部件例如反射鏡、掩模和平臺 (stage)必須用低膨脹的材料制造。已知摻雜二氧化鈦的石英玻璃是典型的低膨脹材料...
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