技術(shù)編號：1904621
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開，包括以下步驟（1）在退火窯內(nèi)，將含有硅烷、含氧源的氣態(tài)屏蔽層前驅(qū)體以惰性氣體為載體，通入到溫度為460～480℃的玻璃表面上，利用激光束平行入射，使氣態(tài)屏蔽層前驅(qū)體光致解離發(fā)生化學(xué)氣相反應(yīng)，在玻璃表面沉積形成厚度為50～90nm的屏蔽層；（2）在退火窯內(nèi)，玻璃溫度為435～455℃的范圍內(nèi)，將含有預(yù)制氣化的鋅源、鋁源、含氧源的氣態(tài)導(dǎo)電層前驅(qū)體以惰性氣體為載體，通入到已經(jīng)沉積有屏蔽層的玻璃表面上，利用激光束平行入射，使氣態(tài)導(dǎo)電層前驅(qū)體光致解離發(fā)生...
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