技術(shù)編號：1876439
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種，通過CVD法利用設(shè)置在退火爐內(nèi)的多個噴射器在玻璃帶上形成層疊膜，并將所述玻璃帶切斷，該制造方法中，層疊膜在Tg＋50℃以下形成，且層疊膜中至少2層以上的層在從Tg＋50℃到Tg的溫度范圍內(nèi)形成。而且，形成層疊膜的全部層的溫度范圍內(nèi)的玻璃帶的每單位長度的下降溫度K1為0℃/m＜K1＜10℃/m。專利說明[0001]本發(fā)明涉及,特別是涉及通過在線CVD (ChemicalVapor Deposition,化學(xué)氣相沉積)法在退火爐內(nèi)在玻璃帶上形成層疊膜的。...
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