技術(shù)編號(hào):1855442
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有芯層和包圍該芯層的包覆層、主要使用于光通信的光纖的制造方法以及光纖母材的制造方法。背景技術(shù)最近,除提高光纖的光傳送特性之外,對(duì)于降低光纖價(jià)格的要求日益增高。作為光纖的制造方法,已知?dú)庀鄮лS淀積法(Vapor-phase Axial Deposition method VAD法)、改進(jìn)型化學(xué)氣相淀積法(Modified Chemical Vapor Deposition method MCVD法)、外側(cè)氣相淀積法(Outside Vapor ...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。