技術(shù)編號：1850060
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及氧化釩納米薄膜的制備方法。 背景技術(shù)VO2薄膜在衛(wèi)星的激光防護領(lǐng)域中有很好的應(yīng)用前景。軍事上，利用激光的強能量束對敵方的衛(wèi)星或其他光學(xué)監(jiān)測設(shè)備進行攻擊，將是未來戰(zhàn)爭中爭取主動權(quán)、取得戰(zhàn)略優(yōu)勢的重要手段。提高攝像頭的抗激光擊打能力，保護衛(wèi)星和其他光學(xué)觀測設(shè)備在戰(zhàn)爭中正常運行是現(xiàn)代軍事科技的重要命題。當強能量束入射到W2薄膜上，薄膜會吸收部分光能量導(dǎo)致溫度升高，當越過相變點后，VO2薄膜在可見光和紅外波段的透過率可以下降兩個數(shù)量級，可以有效地阻斷光能...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。