技術(shù)編號：1795619
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及微處理用于需要形成細微特征的微機電系統(tǒng)(MEMS)、微型全分析系統(tǒng) (U-TAS)和生物領(lǐng)域的合成石英玻璃襯底的方法。背景技術(shù)通過使用氫氟酸等刻蝕微處理合成石英玻璃中，形成由金屬或金屬氧化物薄膜和 光致抗蝕劑膜組成的保護膜。當(dāng)金屬或金屬氧化物膜形成時，膜自身的內(nèi)應(yīng)力會影響在隨 后刻蝕過程中形成的圖案特征的寬度。確定金屬或金屬氧化物膜形成的最佳條件是困難 的。通常，因為使用資金密集型設(shè)備以及需要在真空下進行膜的沉積和去除，金屬或金屬氧 化物膜的形成...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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