技術(shù)編號(hào)：1444233
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體光刻顯影設(shè)備清洗裝置，包括底座及設(shè)置在底座中央的圓柱形吸盤，其特征在于所述底座上均勻設(shè)有若干以吸盤為圓心的背洗噴頭，所述底座上還設(shè)有一圈擋水圈。由于擋水圈的阻隔，在硅片的上表面進(jìn)行化學(xué)品噴涂時(shí)，硅片表面的顯影液不會(huì)直接污染到硅片背面，由于硅片下表面收到的直接污染較小，那么化學(xué)品不會(huì)大量聚集進(jìn)而流到吸盤的連接處導(dǎo)致無法徹底清洗。此外，優(yōu)化的背洗噴頭位置可輕易的將硅片背面少量的顯影液沖走，兩者結(jié)合可完全解決硅片背面的沾污問題。專利說明一...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。