技術(shù)編號：1416314
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體，更具體地說，涉及硅片清洗設(shè)備及儲(chǔ)液罐。背景技術(shù)由于硅片關(guān)鍵尺寸的持續(xù)縮小，硅片表面在經(jīng)受工藝之前必須是潔凈的?？刂普次圩钣行緩绞欠乐拐次酃杵渲姓冀y(tǒng)治地位的硅片表面清洗方法是濕化學(xué)法，濕化學(xué)法是用化學(xué)藥劑與硅片表面需要去除的沾污物進(jìn)行反應(yīng)，使得沾污物從硅片表面剝離從而達(dá)到清洗的目的。傳統(tǒng)的濕化學(xué)法在清洗槽中進(jìn)行，由一系列安裝在煙霧罩中的酸槽和清洗槽組成，其中酸槽和清洗槽統(tǒng)稱為儲(chǔ)液罐。為了方便觀察儲(chǔ)液罐中化學(xué)藥劑的高度，如圖I所示，儲(chǔ)液...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。