技術編號：1410332
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及集成電路晶片清潔裝置，具體涉及一種高速射流噴頭。背景技術隨著集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段，制造集成電路晶片工藝中的清洗工 藝要求也越來越高。我國的清洗行業(yè)多年來一直處于采用化學清洗和手工清洗方式的狀 態(tài)。無論是化學清洗還是人工清洗都存在著清洗成本高、效率低、污染環(huán)境等問題，遠遠不 能滿足現(xiàn)代社會日益增長的工業(yè)及民用清洗要求。目前，已有應用高速射流于集成電路晶片制造工藝中的清洗工藝，但這種射流是 通過一個噴嘴來實現(xiàn)的。該噴嘴射出的射流直徑...
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