技術(shù)編號：1388616
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體晶片清洗裝置，特別涉及一種改進的半導(dǎo)體晶片清洗裝置，該裝置在安裝晶片的舟上設(shè)置雜質(zhì)析取管，并將從晶片上和舟上去除的雜質(zhì)排放到內(nèi)槽外，所以，可以防止正在被清洗的晶片被污染，從而可增強系統(tǒng)的清洗效果。在制造高集成度半導(dǎo)體器件時，晶片表面上的微細顆粒會嚴重損害器件特性。因此，近來，能有效地清洗晶片表面上的微細顆粒的清洗技術(shù)被認為是本行業(yè)最重要的技術(shù)。在LSI技術(shù)中，2μm半導(dǎo)體器件已實際用于產(chǎn)業(yè)中。在制造這種半導(dǎo)體器件時，在制造這種高集成度半...
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